三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對(duì)硅和鎢化合物，高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對(duì)氧化硅和硅），它在蝕刻時(shí)，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。
穩(wěn)定性
化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，一般條件下在水與堿溶液中均不反應(yīng)（三校合編無機(jī)化學(xué)第四版下冊(cè)534頁），只有當(dāng)放電時(shí)在水中才發(fā)生NF3+2H2O==放電==HNO2+3HF。F的電負(fù)性大于H，因此NF3中的孤對(duì)電子云由于向F偏移而導(dǎo)致電子云密度比在NH3中低，配位能力下降，因此質(zhì)子化時(shí)放熱小于NH3。偶極矩與上面類似，大概就是由于電負(fù)性的增強(qiáng)導(dǎo)致偶極矩的降低。
禁配物：還原劑、易燃或可燃物。
用途
三氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學(xué)激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對(duì)硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對(duì)表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時(shí)也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。
危險(xiǎn)概述
三氟化氮是低毒性物質(zhì)，但是它能強(qiáng)烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織。吸入高濃度NF3可引起頭痛、嘔吐和腹瀉。長(zhǎng)期吸入低濃度NF3能損傷牙齒和骨骼，使牙齒生黃斑，骨骼成畸形。具有強(qiáng)氧化性。與還原劑能發(fā)生強(qiáng)烈反應(yīng)，引起燃燒爆炸。與易燃物(如苯)和有機(jī)物(如糖、纖維素等)接觸會(huì)發(fā)生劇烈反應(yīng)，甚至引起燃燒。受高熱發(fā)生劇烈分解，甚至發(fā)生爆炸。大鼠吸入1000ppm·l小時(shí)末見死亡，但出現(xiàn)高鐵血紅蛋白血癥，當(dāng)吸入10000ppm·l小時(shí)有死亡，在2500ppm時(shí)吸毒后4小時(shí)死亡。最高容許濃度：10ppm(29mg/m3)。
